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崇翌科技股份有限公司

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化學藥液濃度計
HORIBA的化學藥液濃度計可即時監測不同藥液的濃度,如SC-1、SC-2、SPM、HF等。 此款濃度計可應用於半導體中的清洗或蝕刻製程。化學藥液濃度計可同時測量多達8種不同成份或濃度的藥液(取決於型號規格)。同樣也可以監測單一成份的化學試劑,確保滿足客户製程和設備。所有的產品都保證高精度和高穩定性,客户可選擇不同的化學藥液濃度計,滿足需求。
超高壓微噴射清洗系統 HPMJ (High Pressure Micro Jet Cleaning System)
所謂超高壓微噴射清洗系統,是指將清洗液用泵浦加压、輸送,利用從微型噴射式噴嘴中噴出的微小液滴化的清洗液,對準物件高速噴射的物理清洗系统。以霧化技術的開發為基礎,使清洗液微粒化,利用其碰撞能量進行清洗。採用非接觸式物理清洗,可對亞微米單位的微小顆粒進行清洗。

氣體質量流量控制器 (MFC)
HORIBA-STEC提供多種不同類型的氣體質量流量控制器以滿足客户不同的需求。所有產品都擁有高精度、快速響應的特性。多種不同類型的氣體質量流量控制器皆擁有廣泛的流量範圍,客户可選擇最適合的類型。客户可選擇熱式閥門、電磁線圈閥門、或者壓電陶瓷閥。同樣也可提供多種不同的通訊方式,包括類比式、數位式、DeviceNet, 以及PROFIBUS(取決於產品型號)。產品的流量範圍可從微量流量直至超大流量。

精密塗佈系統 (PCS)
分别控制粒子直徑和粒子飛行速度以達到最適當的塗膜技術、利用低壓可以實現更均匀的微粒化的技術,通過與連續穩定供應材料的技術相結合,從而實現納米级的超薄膜乃至數µm级的膜厚。

DUV/EUV (表面改質、親水化)
DUV Lamp是254nm和185nm波長的紫外線,EUV LAMP是172nm波長的紫外線,主要應用於乾洗淨製程上,去除被照射物表面之有機物質。大部分的有機物的化學性結合能量都低於這個值,所以,照射DUV/EUV後,能夠切斷有機物的結合,而被照射的有機物就會產生游離基和激發狀態分子,被照射物表面就具有親水性了。

設備維修 / CKD VEC OverHaul