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• 傳動/制動元件

• 台灣中區

• 無塵室設備/用具/耗材
• 儀器設備維修/校正
• 廠務系統/管路配管工程

空氣污染防治
水洗塔工廠
排煙櫃工廠
實驗桌設備
無塵室規劃
內循環排氣設備
活性碳吸附廢氣處理設備

• 台灣中區

• 無塵室設備/用具/耗材
• 儀器設備維修/校正
• 廠務系統/管路配管工程

經營實驗室設備(包括：實驗桌、排煙櫃、空氣汙染處理設備…等)之生產製造

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• 大陸地區

• 電機部品
• 幫浦/真空部品/維修
• 檢測/監測設備/部品

2008年4月正式於台灣新竹市 成立泰捷科技股份有限公司
2009年 為客戶開發並導入Murata 自動化系統維修
開啟高科技產業設備維修及電控維修服務業務
2012年 成立大陸分公司
負責半導體與面板業設備零組件維修及真空pump維修業務
2013年 設立關鍵零件及設備耗材代理業務
同年取得各式工業燈及光纖線材的代理
2014年 成立MKS gauge 真空壓力計維修生產線、發展多元化之維修服務
2015年 代理韓國維修商在半導體設備零組件、ETCH ESC維修及買賣業務
2019年 成立監控系統及電子級抗菌濾芯的代理業務，擴大半導體及面板產業的服務項目

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• 大陸地區

• 電機部品維修
• 幫浦/真空部品/維修
• 空壓/液壓部品設備

真空壓力計維修
電控維修
監控系統
零件耗材類
半導體產品

• 台灣北區
• 台灣中區
• 台灣南區

• 電機部品維修
• 幫浦/真空部品/維修
• 其他(未分類)

泰捷科技股份有限公司(TAI JEI TECHNOLOGY CO.,LTD)成立於2008年4月，主要為半導體及面板高科技設備代理&維修(後勤系統整合)，真空壓力計與各類電控維修、監控系統、零件耗材販賣、 開發。
本公司是擁有豐富維修技術團隊所共同創立，團隊成員來自各大原廠專業維修技術專才，專精於維修各類電控產品及各式MKS gauge真空壓力計，比照原廠檢測方式，維修良率高，維修實績涵蓋台灣各半導體廠、TFTLCD 面板及光電廠客戶。
秉持專業的態度與紀律，堅持高績效的服務品質，相信創新是永續經營的不二法則，建立真誠的企業文化，發揮團隊合作的價值，堅持高績效的服務品質，終身學習，勇於挑戰。

• 台灣中區

• 密封元件

旭福創建於1987年，專注於電子事業領域，為半導體與相關電子行業的客戶，提供多方面的業務服務。
Kalrez全氟化橡膠，是美國杜邦公司于1968年研發的全班第一個全氟化橡膠。該產品除了具有鐵氟龍優異的耐化學性外，同時還具有橡膠的彈性，卓越的耐熱性和潔淨度，是一項具有革命性意義的產品。
在耐化學性方面，一般氟化橡膠無法造用的醚類、胺基化合物、酮類、氧化劑、強酸和強鹼等環境中，Kalrez都能顯示其穩定性、耐熱性(以JIS K6301等壓縮變化測試結果為基準)方面，Kalrez在300度的高温下也能保持橡膠的彈性特徵。因此Kalrez零件應用作為半導體、化工、食品和醫療製造的密封材料時，它可以延長密封壽命、減少維修成本、減少污染程度。

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• 乾/溼/光洗淨部品
• 檢測/監測設備/部品
• 各式整機設備

化學藥液濃度計
HORIBA的化學藥液濃度計可即時監測不同藥液的濃度，如SC-1、SC-2、SPM、HF等。 此款濃度計可應用於半導體中的清洗或蝕刻製程。化學藥液濃度計可同時測量多達8種不同成份或濃度的藥液（取決於型號規格）。同樣也可以監測單一成份的化學試劑，確保滿足客户製程和設備。所有的產品都保證高精度和高穩定性，客户可選擇不同的化學藥液濃度計，滿足需求。
超高壓微噴射清洗系統 HPMJ (High Pressure Micro Jet Cleaning System)
所謂超高壓微噴射清洗系統，是指將清洗液用泵浦加压、輸送，利用從微型噴射式噴嘴中噴出的微小液滴化的清洗液，對準物件高速噴射的物理清洗系统。以霧化技術的開發為基礎，使清洗液微粒化，利用其碰撞能量進行清洗。採用非接觸式物理清洗，可對亞微米單位的微小顆粒進行清洗。

氣體質量流量控制器 (MFC)
HORIBA-STEC提供多種不同類型的氣體質量流量控制器以滿足客户不同的需求。所有產品都擁有高精度、快速響應的特性。多種不同類型的氣體質量流量控制器皆擁有廣泛的流量範圍，客户可選擇最適合的類型。客户可選擇熱式閥門、電磁線圈閥門、或者壓電陶瓷閥。同樣也可提供多種不同的通訊方式，包括類比式、數位式、DeviceNet, 以及PROFIBUS(取決於產品型號)。產品的流量範圍可從微量流量直至超大流量。

精密塗佈系統 (PCS)
分别控制粒子直徑和粒子飛行速度以達到最適當的塗膜技術、利用低壓可以實現更均匀的微粒化的技術，通過與連續穩定供應材料的技術相結合，從而實現納米级的超薄膜乃至數µm级的膜厚。

DUV/EUV (表面改質、親水化)
DUV Lamp是254nm和185nm波長的紫外線，EUV LAMP是172nm波長的紫外線，主要應用於乾洗淨製程上，去除被照射物表面之有機物質。大部分的有機物的化學性結合能量都低於這個值，所以，照射DUV/EUV後，能夠切斷有機物的結合，而被照射的有機物就會產生游離基和激發狀態分子，被照射物表面就具有親水性了。

設備維修 / CKD VEC OverHaul