全球工業技術大廠羅伯特·博世有限公司(Bosch)近日與美國商務部「晶片計畫辦公室」(CHIPS Program Office)達成最終協議,將獲得高達2.25億美元的直接補助,以強化其在美國的半導體生產能力。這筆資金將支持羅伯特·博世一項高達20億美元的投資計畫,旨在將其位於加州羅斯維爾(Roseville)的工廠轉型為碳化矽(SiC)半導體製造基地。
根據《Design and Development Today》報導,羅伯特·博世已於該羅斯維爾廠區啟動樣品生產。該公司預計在2026年,利用200毫米晶圓生產首批基於其碳化矽技術的商用晶片。羅斯維爾廠區擁有超過40年的半導體製造經驗,羅伯特·博世於2023年8月完成收購,並持續投資於新潔淨室與高科技生產線。